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新誠深冷為你解析:真空鍍膜機主要分類

發布時間:2018-04-10  新聞來源:admin  瀏覽次數:880
主要分類有兩個大種類: 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。
一、對于蒸發鍍膜:
一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。
厚度均勻性主要取決于:
1?;牧吓c靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3. 蒸發功率,速率
4. 真空度
5. 鍍膜時間,厚度大小。
組分均勻性:
蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
晶向均勻性:
1。晶格匹配度
2。 基片溫度
3。蒸發速率
濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。


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